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我國創(chuàng)“多重鰭高電晶體” 晶片多塞2千萬顆還更省電
Data time:2013-12-11 10:21:40 Click:
半導(dǎo)體界的戰(zhàn)爭日新月異,製程也逐漸從傳統(tǒng)平面式轉(zhuǎn)為立體。繼國際大廠推出彎曲式「鰭式場效電晶體」后,國研院也選在3日發(fā)表領(lǐng)先全球的製程技術(shù),做出彈性更高、體積更小的「多重鰭高電晶體」,大幅提升國內(nèi)半導(dǎo)體廠商的國際競爭力。
國研院研發(fā)出彈性更高、體積更小的「多重鰭高電晶體」。
奈米元件實(shí)驗(yàn)室表示,「鰭式場效電晶體」(FinFET) 因?yàn)樾螤钣腥玺~鰭而得名,除了體積小較為省電,還可擴(kuò)充晶片上可容納的電子元件密度,并讓不同大小的電流「各住適合的房型」,達(dá)到晶片空間利用的最佳化,藉此提升運(yùn)作效能。
國研院指出,半導(dǎo)體積體電路的製造,可說是一場尺寸微縮與效能提升的競賽,半導(dǎo)體元件最先進(jìn)的製程技術(shù),約可在1平方公分的硅晶片上,容納約1億顆電晶體;「鰭式場效電晶體」技術(shù)一旦推出,不只讓設(shè)計(jì)更具彈性,還可在同樣面積增加約2千萬顆電晶體,等于節(jié)省了兩成的製作成本。
國研院還說,此技術(shù)已經(jīng)申請專利,且自12月起,將為國內(nèi)學(xué)術(shù)界開放製作平臺,方便其研發(fā)各種元件雛型與製程技術(shù),讓學(xué)術(shù)前瞻研究與產(chǎn)業(yè)接軌;預(yù)估在5年內(nèi),就能協(xié)助業(yè)界量產(chǎn)「多重鰭高的鰭式場效電晶體」